IKA RCT basic磁力搅拌器-合测实业

产品介绍

德国艾卡IKA磁力搅拌器RCT basic产品介绍：

新一代的RCT basic 依然延续了RCT 家族久经考验的可靠品质，并加入了更多的新功能：

• 耐化学腐蚀和易于清洁的防爆钢化玻璃面板设计

• 高清LED大屏显示

• 发光指示符号显示加热，温度传感器，设定/实际温度等信息

• 新增RS232及USB接口，可连接计算机软件远程控制

• 可连接IKA labworldsoft®实验室管理软件

• 新增二维码标识，一键扫码获取设备相关信息

• 开关位于正前方，更方便操作

久经考验的优势技术

• 采用铝合金盘面，实现均匀高效的传热

• 出色的磁耦合，提供强劲的磁力

• 软启动可防止磁力搅拌子在启动阶段断裂

• 两种优化的温度控制模式确保快速加热或精确的温度控制，有效避免温冲

• 按钮/旋转二合一，用于设定温度和速度，以及控制设备的启停

"安全、可靠，且符合标准

RCT basic拥有可靠的安全功能设计，符合DIN EN 61010-2-010的安全标准，满足实验室加热型设备的所有安全要求，可用于无人值守操作。

• 通过了TÜV SÜD根据标准IEC 61010-1（cTÜVus）进行的测试和认证

• 可调节的盘面安全温度电路（随主机带调节工具）

• 确认模式（操作模式D）可防止设定值被意外更改。重新启动时，需要确认安全温度。

• 如果连接的外部温度传感器未浸入或未正确浸入介质，则自动关闭温度控制功能。该功能（Error 5功能）为可选设置，时间也可调。

• 封闭式设计（防护等级IP42），即使在实验室的ji端条件下，也能保证较长的使用寿命

• 即使在冷介质下也能可靠运行。RCT basic外接温度传感器可测量的zui低温度为-20°C。

• 设备后方的温度传感器接口采用短接保护式设计

• 机身外壳采用防火压铸铝材质，且覆有高质量和耐用的粉末涂层

• DIN 12878插口用于连接电子接触式温度计，例如用于高精度控温的ETS-D5。在这种组合中，实验装置通过另一个独立的安全回路来控制介质温度。

技术参数

德国艾卡IKA磁力搅拌器RCT basic技术参数：

搅拌点位数目	1
zui大搅拌量 (H2O)	20 L
搅拌子长度	20 - 80 mm
温度设定范围	0 - 310 °C
加热板的温度设定精度	1 K
温度显示设定值	LED
温度显示实际值	LED
温度单位	℃
加热温度控制	控制旋钮
加热温度范围	室温+盘面自热 - 310 °C
加热盘自热（室温:22°C/保持:1小时）	+17 K
加热输出功率	600 W
速度范围	50 - 1500 rpm
设置速度精度	10 rpm
转速控制	控制旋钮
旋转方向	右
速度显示设定值	LED
速度显示实际值	LED
速度偏差（空载，标称电压，1500rpm+25℃）	±2 %
加热速率（H1500中的1L H2O）	6.5 K/min
加热板的加热控制精度（100℃）	±5 K
允许环境温度	5-40°C
允许相对湿度	80 %
外接温度传感器接口	PT1000，ETS-D5，ETS-D6
温度测量范围	PT1000 -20 - 310 °C
外部PT1000加热控制精度（600ml烧杯中500ml H2O，40mm搅拌棒，600rpm，50℃）	±1 K
ETS-D5加热控制精度（600ml烧杯中500ml H2O，40mm搅拌棒，600rpm，50℃）	±0.5 K
ETS-D6加热控制精度（600ml烧杯中500ml H2O，40mm搅拌棒，600rpm，50℃）	±0.2 K
介质检测传感器	是
介质温度设定精度	1 K
可调安全温度回路最小值	50 - 360 °C
工作盘材质	铝合金
工作盘外形尺寸	Ø 135 mm
DIN EN 60529 保护方式	IP 42
RS 232接口	是
USB接口	USB-B
外形尺寸	160 x 85 x 270 mm
重量	2.4 kg
电压	220 - 230 V
频率	50/60 Hz
仪器输入功率	650 W
仪器输入功率待机	1.6 W
zui大载荷	25 kg
电机输出功率	9 W
可选套装	基本型套装1:RCT Basic主机、PT 1000.60温度计、IKAFLON® 20/30/40搅拌子、H16V支杆、H38固定支杆、H44夹头
可选套装	基本型套装2:RCT Basic主机、PT 1000.60温度计、IKAFLON® 20/30/40搅拌子、ETS-D5电子接触式温度计、H16V支杆、H38固定支杆、H44夹头

德国艾卡IKA磁力搅拌器RCT basic适用于高达20 L（H2O）的搅拌操作，盘面的加热温度zui高可达310°C。连接外部温度传感器（随主机赠送PT 1000.60），可直接在反应介质中测量和控制温度。